摘要：因?yàn)槎?zhàn)歷史遺留問題引發(fā)的連鎖反應(yīng)，日本政府在今年7月初加強(qiáng)了對(duì)韓國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)的出口管制，具體包含光刻膠、氟化氫和含氟聚酰亞胺這三種材料。其中，光刻膠在半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展中扮演了非常重要的角色，它是電子元件集成度提高的光刻技術(shù)關(guān)鍵材料，日本政府把它作為一種戰(zhàn)略資源，說(shuō)明了其在該行業(yè)領(lǐng)先地位，我國(guó)也嚴(yán)重依賴從日本進(jìn)口，本文對(duì)光刻膠的國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程進(jìn)行了解析。

　　起步太晚，進(jìn)口只是開始

　　光刻膠是利用光化學(xué)反應(yīng)經(jīng)曝光、顯影、刻蝕等工藝將所需要的微細(xì)圖形從掩模版轉(zhuǎn)移到待加工基襯底上的有機(jī)化合物，是集成電路和平板顯示兩大產(chǎn)業(yè)光刻工藝的重要部分，也是國(guó)際上技術(shù)門檻最高的微電子化學(xué)品之一。

　　清華大學(xué)核能與新能源技術(shù)研究院的報(bào)告顯示，IBM在上世紀(jì)70年代已經(jīng)開始了化學(xué)放大(CA)光刻膠技術(shù)的研發(fā)，我們國(guó)家從2000年才開始重視光刻膠技術(shù)，幾乎落后了30年。相比之下，日本企業(yè)重視向半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈縱深發(fā)展，積極研發(fā)光刻膠，在全球前十名光刻膠生產(chǎn)企業(yè)中有七家是日本企業(yè)，包括日立化成、東京應(yīng)化、三菱化學(xué)、旭化成、住友電木、住友化學(xué)和富士膠片。他們總計(jì)占據(jù)了全球市場(chǎng)60%以上的份額，如圖1所示。

圖1 全球光刻膠市場(chǎng)份額

(來(lái)源：賽迪顧問)

　　2015年，我國(guó)光刻膠市場(chǎng)規(guī)模達(dá)到51.7億元，近幾年，伴隨著我國(guó)液晶面板和半導(dǎo)體行業(yè)的快速崛起，市場(chǎng)增長(zhǎng)率一直保持10%以上。然而，國(guó)內(nèi)企業(yè)起步晚，加上技術(shù)水平的限制，光刻膠的自給率不足10%，僅有北京科華、蘇州瑞紅等幾家企業(yè)生產(chǎn)。

　　國(guó)內(nèi)企業(yè)主要集中在技術(shù)含量較低的PCB領(lǐng)域，主要從臺(tái)灣長(zhǎng)興、日本旭化成、日本太陽(yáng)油墨進(jìn)口，如表1所示。

表1 PCB光刻膠主要進(jìn)口企業(yè)

(來(lái)源：公開資料整理)

　　我國(guó)的LCD光刻膠市場(chǎng)規(guī)模在12.5億元以上，市場(chǎng)主要由日本及韓國(guó)的廠商壟斷，主要從日本橡膠合成、LG化學(xué)、東京應(yīng)化、CHEIL等企業(yè)進(jìn)口，如表2所示。

表2 LCD光刻膠主要進(jìn)口企業(yè)

(來(lái)源：公開資料整理)

　　半導(dǎo)體光刻膠核心技術(shù)被日本和美國(guó)企業(yè)壟斷，KrF/ArF光刻膠幾乎全部依賴進(jìn)口，日本合成橡膠、信越化學(xué)、東京應(yīng)化、住友化學(xué)，美國(guó)SEMATECH、IBM，韓國(guó)東進(jìn)化學(xué)等企業(yè)生產(chǎn)規(guī)模較大，如表3所示。

　　表3 半導(dǎo)體光刻膠主要進(jìn)口企業(yè)

　　(來(lái)源：公開資料整理)

　　一定程度上，進(jìn)口滿足了國(guó)內(nèi)市場(chǎng)對(duì)于不同光刻膠的需求，推動(dòng)了下游印刷電路板、液晶顯示器和芯片行業(yè)的發(fā)展，然而下游產(chǎn)業(yè)的發(fā)展也反哺了我國(guó)光刻膠產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，進(jìn)口也只是開始。

　　國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程多處于項(xiàng)目建設(shè)與研發(fā)階段

　　我國(guó)生產(chǎn)光刻膠的企業(yè)包括：蘇州瑞紅、北京科華、濰坊星泰克、永太科技、容大感光等，蘇州瑞紅和北京科華的g線正膠、i線正膠取得了量產(chǎn)，北京科華KrF光刻膠通過了中芯國(guó)際認(rèn)證，ArF光刻膠處于研發(fā)階段。飛凱材料的濕膜光刻膠、永太科技的彩色/黑色光刻膠處于項(xiàng)目建設(shè)階段。如表4所示。

表4光刻膠國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程

(來(lái)源：公開資料整理)

　　國(guó)家科技重大專項(xiàng)(02專項(xiàng))“極大規(guī)模集成電路制造裝備及成套工藝”—i 線光刻膠產(chǎn)品開發(fā)及產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目由蘇州瑞紅承擔(dān)，2018年年中順利通過了專家組驗(yàn)收，并且實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)，可以實(shí)現(xiàn)0.35μm的分辨率。

　　北京科華承擔(dān)了KrF線(248nm)光刻膠產(chǎn)業(yè)化課題。目前其已完成了年產(chǎn)能10噸的248nm KrF光刻膠生產(chǎn)線的建設(shè)。據(jù)悉，北京科華193 nm ArF干法光刻膠中試產(chǎn)品也已完成在國(guó)內(nèi)一流集成電路制造企業(yè)的測(cè)試。

　　結(jié)語(yǔ)

　　我國(guó)光刻膠行業(yè)起步晚，光刻膠市場(chǎng)的國(guó)產(chǎn)化自給率很低，主要依賴進(jìn)口。然而，在下游印刷電路板、液晶顯示器、芯片行業(yè)和國(guó)家科技重大專項(xiàng)政策的推動(dòng)下，國(guó)產(chǎn)廠商已經(jīng)實(shí)現(xiàn)了部分技術(shù)突破，相信隨著半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展和中國(guó)人消費(fèi)需求的提高，光刻膠的進(jìn)口依賴程度會(huì)進(jìn)一步降低，讓我們拭目以待。